再添山两座：新凯来新动向

今年的湾芯展上，新凯来推出了两款新产品：六盘山与井冈山。
光学检测方向的PMI(六盘山)图形掩模缺陷检测。此前的产品手册里只有莫干山，涉及空白掩模缺陷检测，没有六盘山这个系列。
在电子光学量检测方面，井冈山(mEBI)多电子束晶圆缺陷检测，主要用于芯片研发及量产中的纳米级尺寸及电性缺陷检测，集成AI缺陷检测、定位和分类。
乍看之下没有去年大规模十六座“山”同发的气势磅礴，但这次的两座山所瞄准的对象可不简单，分别是量测霸王KLA和光刻巨头ASML。
KLA的Teron系列在掩模厂的图形缺陷检测中有着重要的地位，Teron 647在国内掩模制造中可以说是标杆一样的存在。
Source：KLA
虽然未见六盘山真容，但其以Teron 597和647为参考，大致可一窥其真容。与瞄准KLA FlashScan的莫干山(BMI)不同，六盘山以透射光与反射光信号对光强不同的区域进行搜索，以SL(无图形)，DD(芯粒间对比)，DB(数据库对比)的方式确定其缺陷类型，以算法进行筛选和分类。除了光学系统提供的精密分辨率外，高效算法也可以提升数据处理的速度与准确性，同时还需要强大的GPU去提供海量的算力，KLA一体最多12个计算节点带来的排山倒海的算力也是其常年立于不败之地的保证。国内同类型的产品有维普光电的Storm系列和御微的Raptor系列，但总体而言与KLA差距依旧较大。
而对ASML，新凯来则端出了井冈山。ASML作为光刻巨头，不仅曝光系统和工艺登峰造极，对于光刻缺陷的产生和理解也颇为独到，结合自己的计算光刻软件打造了光刻铁三角，可谓环环相扣。此前，ASML的电子束缺陷检测在中国市场的营收甚至一度超过了光刻机！
虽然不是光刻机，但井冈山是多电子束晶圆缺陷检测设备，直接瞄准了ASML的HMI电子束缺陷检测，而多电子束缺陷检测直接瞄准了高端市场：电子束的高分辨率和多电子束提供的高通量，是先进制程不可或缺的缺陷检测手段。同KLA的光学缺陷检测一样，多电子束在工作的时候会带来庞大的数据通量，其数据量可以每秒TB级记，因此对算法与硬件的需求也非常严苛。目前国内电子束缺陷检测设备中较为优秀的是东方晶源，但仅限单束设备。
想比六盘山，这井冈山更能提起⑧蜀的兴趣。去年⑧蜀写过一篇关于新凯来可能发展方向的探讨(从招聘信息看新凯来的新动向)，根据电子光学的招聘信息，⑧蜀首先推测便是电子束缺陷检测设备。
Source: MAPPER: HIGH THROUGHPUT MASKLESS LITHOGRAPHY, 2008
我们也不妨把脑洞开大些，有了多电子束的控制能力，是不是就可以跳过可变束直接走上多电子束光刻机的巅峰之路了呢？ASML的电子束检测技术来自于荷兰Mapper的电子束光刻机，根据Mapper曾经发表的论文来看其使用电子光阑列阵实现分束，这点上与NuFlare所使用的技术路线相比颇为相似。因此即使比不上NuFlare的MBM-1000，其速度也可以明显超过目前最强的可变束设备EBM-9500。
新凯来端出了国内尚处于短板的技术，其最大的意义不是创造了某项高端技术，而是将海外巨头的王牌技能这层窗户纸捅了个对穿！知道是个什么东西，用什么原理去实现，剩下的就交给市场去解决吧！