股票
板块
用户
资讯
首页
天眼
自选
发现
开户
首页
天眼
自选
发现
我的

【Study】从边缘放置误差看先进光刻的挑战

编者按

“

中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,集成电路学院开设了《集成电路先进光刻与设计工艺协同优化》研讨课。在授课过程中,除教师系统地讲授外,学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告,实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO等集成电路行业相关技术。

考虑到这些内容也是目前业界关注的实用技术,征得教师和学生的同意,本公众号将陆续展示一些学生的调研结果。这些报告还很初步,甚至有少许谬误之处,请业界专家批评指正。

以下为报告PPT:

原文链接
多空观点 观点仅供交流,不构成投资建议
点赞
踩一踩
收藏
分享

评论 (0)

0/200
声明:社区内容仅代表用户个人观点,不构成任何投资建议。投资有风险,入市需谨慎。