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资讯 CHINANO 2026
10月21日，第十六届国际纳米技术产业博览会在苏州国际博览中心开幕，350余家国内外企业参展，570余位海内外顶尖学者、企业高管齐聚苏州，聚焦微纳制造、第三代半导体、原子级制造等前沿赛道，尽显行业专业性。
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开幕首日，苏大维格创始人兼首席科学家陈林森研究员受邀做学术演讲《基于套准纳米压印的空间智能光场重构技术与应用前景》，讲解苏大维格突破性的创新成果，专业观众反响热烈，现场交流氛围浓厚。
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现场精彩一览
集团核心技术骨干就展出的先进封装数字光刻系统、数字化紫外直写光刻系统、纳米压印光刻系统、半导体缺陷检测设备、虚实融合空间透明显示及先进光子器件六大创新成果，为专业观众作现场讲解，展品备受媒体关注。
先进封装数字光刻系统（IPackLitho）采用无需掩模版的数字化光刻，为晶圆级、面板级先进封装提供高灵活度布线方案；数字化紫外直写光刻系统从数字文档直接到模具与工件，服务泛半导体、光子器件、柔性电子等领域；纳米压印光刻系统率先实现卷对卷、卷对平量产模式，赋能柔性光电子与微纳光学；维普半导体缺陷检测设备填补国内高端检测空白，护航晶圆与掩模制造；先进光子器件则为 AR 显示、精密测量等提供高性能光学方案。
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凭借覆盖 “光刻装备—纳米压印—检测验证—新型显示” 的全链条产品矩阵，苏大维格展位人气持续火爆，专业观众与合作伙伴络绎不绝，成为本届纳博会的焦点展位之一。
精彩还在继续
欢迎行业伙伴莅临
苏州国际博览中心B1馆T22
苏大维格期待您的到来！
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