你好，14nm 以下高阶单片清洗验证难度高，贵司湿法清洗设备（至微）是否已经进入国内顶级先进制程 GPU 产线，目前批量设备主要是应用高端存储芯片还是逻辑芯片生产产线？

2026-10-12 18:20:45

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您好，公司半导体湿法设备聚焦晶圆制造的前道工艺，主要应用于扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等关键工序段前后。公司在 28 纳米节点设备开发已经全部完成，且全工艺机台均有订单，在更先进制程节点也已取得部分工艺订单，适用于存储、先进逻辑及特殊工艺应用。目前公司法设备主要供应逻辑芯片产线。

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你好，14nm 以下高阶单片清洗验证难度高，贵司湿法清洗设备（至微）是否已经 进入国内顶级先进制程 GPU 产线，目前批量设备主要是应用 高端存储芯片 还是逻辑芯片生产产线？